A Semikonductorist Fabrikatioun, Gase maachen all d'Aarbecht an de Laser all Opmierksamkeet kritt. Wärend Laser maachen Etchtransisteurmuster an d'Silicon, d'Etch deen als éischt de Silicon ofbréngt an de Laser ofbriechen an e bësse Kuerf ze maachen. Et ass net iwwerraden datt dës Gaueren benotzt goufen, déi benotzt ginn fir Mikrowros z'entwéckelen, si vun enger héijer Rengheet. Nann zu dëse Begrenzung hunn vill vun hinnen anere Begrenzungen. Enquasiase si lieft ganz vill, anerer si kontroksesch, an nach aner aner.
Alles an allen, dës Aschränkungen maachen Fabrikatiounsgasverbriechungssystemer fir d'Hallefinisterorière eng bedeitend Erausfuerderung. Material Spezifikatioune verlaangen. Zousätzlech ass et zu MATATEI Qleeti fir Matière, eng Kiermiesse Behälschung ass e komplex ororoomschaanesch Relioun vun intercomneren Systemer. D'Ëmwelt, déi se versammele sinn komplex an iwwerlappend. Finale Fabrikatioun fënnt op der Plaz als Deel vum Installatiounsprozess statt. Orbital Solutioun hëlleft der héijer Spezifikatioune vu Gasverdeelungsfuerderunge beim Käschten an enk, usprochsvollen Ëmfeld méi managen.
Wéi d'Semikondorist Industrie Gase benotzt
Ier Dir probéiert d'Fabrikatioun vun engem Gasverdeelungsystem ze plangen, ass et noutwendeg op d'mannst d'Basics vun der Semikondhenhaushier ze verstoen. Op sengem Kär, d'Hallefofkälter benotze Gase fir no-elementar Fester op enger Uewerfläch op enger grousser kontrolléierter Manéier ze deponéieren. Dës deposéiert Feststoffer ginn dann geännert andeems Dir zousätzlech Gase benotzt, Laser, chemesch Etchans, an Hëtzt. D'Schrëtt am Breet Prozess sinn:
Oflagerung: Dëst ass de Prozess fir den initiale Silicon Wafer ze kreéieren. Silicon Precursor Gase ginn an eng Vakuum Depositiounskammer gepompelt a form dënn Silikon Wafers duerch chemesch oder kierperlech Interaktiounen.
Photolithographie: D'Foto Sektioun bezitt sech op Laser. An der méi héijer extremer Ultraviolet Lithographie (EUV) Spektrum benotzt fir déi héchst Spezifizéierungspips ze maachen, e Kuelendioxid Laser Laser huet d'Mikrocuccuiture an de Wafereigofrace
Den Echching: Wars: am Etching Prozess, HägoS-Chausseves Maklowgas ass an der Chamber, déi gewielten Material erlaben. Dëse Prozess huet effektiv déi laser-gedréckt Circuitrie op de Substrat.
Doping: Dëst ass en zousätzleche Schrëtt, déi d'Verwëllegenheet vun der etceded Uewerfläch ännert fir déi exakt Bedéngungen ze bestëmmen ënner deem d'Semikondunchor.
Annealing: An dësem Prozess, Reaktiounen tëscht Iwwerferschichte ginn duerch erléiser Drock an d'Temperatur ausgeléist. Wesentlech, et finaliséiert d'Resultater vum viregte Prozess an entsteet de finaliséierte Prozessor an der Wafer.
Chamber. Botz allem an der Linn goufen an der viregiichtere Schrëtt gewuer, besonnesch et ze wopoe wéi recaht. Therefore, the process chamber and the gas lines feeding it need to be filled with neutralizing gases to reduce or eliminate harmful reactions, and then filled with inert gases to prevent the intrusion of any contaminating gases from the outside environment.
Gasverdeelung Systemer an de Hallefkierperschmerzder Industrie sinn dacks komplex wéinst de ville verschiddene verschiddenen Déieren, déi involvéiert sinn, Temier an Demef. Temier. Temier an Drock. Temier. Temier. Temier. Temier. Temierkung Dëst wëll weiderziell komplizéiert vum ultra-héich Rengheet well jidderee BEI benotzt amgaang. D'Bande benotzt am viren Schrëtt benotzt ginn aus de Linnen aus de Linnen aus de Linnen oder soss neutraliséiert ier den nächste Schrëtt vum Prozess vum Prozess vum Prozess kann ufänken. Dëst heescht, datt et eng zimmlech eenzeg spezialiséierte Linnen, déi ëeegent sinn, an d'Schlauchten an der Hären. Tefens. Tëscht de Géigner.
Zousätzlech an enger Tellelen Ofstoe a Spezialisioune si per éischt e Kablom a Cenzaller Emile a méi spezialiséierter agestallter Gebitt mateneen. Wëllen dës Gas Systemer an esou engem komplexe Ëmfeld ass keng einfach Aufgab. Wéi och ëmmer, mat där Zäit op Zäitpunkt op Detailer an de richtege Equipement, dës Aufgab kënnen awer zu dësem Film erwonten.
Fabrikatioun Gasverdeelungssystemer an der Hallefinstruktor Industrie
D'Materialien, déi an der Semikalomme Gasverdeelungsystemer benotzt ginn, si ganz variabel. Si kënnen d'Saache wéi ptfe-lined Metallpen an d'Schlauchen enthalen fir héich ätzendeg Gase ze widderstoen. Déi meescht allgemenger Material benotzt fir allgemeng Zweck Pipen an der Semikondrantor Industrie ass 316l Edelstol - eng niddreg Kälbasis Variant. Wann et ëm 316L à-316 ass, 316L ass méi resistent fir intergranesch Korrosioun. Dëst ass eng wichteg Iwwerleeung wann Dir mat enger Rei vun héich reaktiv a potenziell flësseg Gase ka këmmeren, déi Corrode Kuelestoff kann. Schweißen 316l Edelstechnen Butschien Bible manner Kuelestoff. Et reduzéiert och d'Potenzial fir d'Getreid Grenzhorion, déi zu Fousszonstioun zu Worros an Hëtzt beaflossen féiert.
Fir d'Méiglechkeet ze reduzéieren huet d'Korrorosioun op d'Produktlinnen a Kontaminatioun geroden, mat ponphon Strahlschungsmëttel vun der Ostemanladrechter Den eenzegen Schweißprozess deen d'Kontroll huet, déi néideg gëtt fir en héije Puritéit vun der Veraarbechtung ze halen. Automatiséierter Orbital Schweess ass nëmme verfügbar an der Hallefinstruktors Gasverdeelung
Postzäit: Jul-18-2023