Ultra-héije Puritéit Gase sinn essentiell an der Semikalomme Versuergungskette. Tatsächlech fir en typesche Fondëmstännescht Laier séchert Héichspare am Silicis selwer. Bei den Erhascha Vun de Kontext-Chasung ass d'Branche méi séier wéi ni behaapter sou séier wéi eng Demande gëtt fir héich Rue erop.
Déi heefegst benotzt bulk Gase an der Semikonductorhoration Haferei sinn Nitrogen, Helratgen an Argon.
Nordrotgen
Den Nitrogen mécht 78% vun eiser Atmosphär an ass extrem risege. Et geschitt och chemesch Inert an net-konduktiv. All Resultat huet den Nec-- an eng Rei an eng Rei a Industriegeplaz gemaach.
D'Hallefinstruktor Industrie ass e wichtege Konsument vum Stickstoff. Eng modern Semikhewender Hostaccoring Planz gëtt erwaart bis zu 50.000 Kubik Meter vu Lickstoff pro Stonn ze benotzen. An der Semikonductorstabrikée, steigeren handelt als allgemenge Zweck an de Gasheizung ze schützen, sensibel Silmesch Silicon Wafere vu ReAntive a Fiichtegkeet an der Loft.
Helium
Helium ass en Inertgas. Dëst bedeit, wéi den Stickstoff, Helium ass chemesch inertesch Inert - awer et huet och dat zousätzlech Virsaz vun der héijer drecklecher Riederziedelen. Et kennt am Numm aus umistesch eropgiéiert, Erlaabnis et onméiglech fir Hiddersprodukter onméiglech verbesseren, an Higinézetzen an se vum Uewermalungsmotionnéieren.
Waasserwylo
Waasserstoff gëtt extensiv ausgeschnidden vum Elektronics Fabrikatiounsprozess, an d'Semikonductiounsproduktioun ass keng Ausnahm. Besonnesch ee Waasserstoffer gëtt fir:
Annealing: Silicon Wafers ginn normalerweis op highrespartize a lues gekillt a lues fir ze reparéieren (Anneal) déi kristal Struktur. Waasserstoff gëtt benotzt fir Hëtzt gläichzäiteg op d'Wafer ze transferéieren an ze hëllefen am Kristallstruktur ze kréien.
Epitaxy: Ultra-héije Schwéngstrofen gëtt als e Reduzenz Agent benotzt an der Epitaxial Depositioun vun der Semikoffiktorders wéi Silicon an dem Geräischer wéi De Silicon.
Depositionéierung: Waasserstoff kënnen a Silizon Filmer ënnerwee sinn fir hir Atomunruktur méi duerchfuerdert ze maachen, hëlleft Resistipivitéit ze erhéijen.
Plasma Botzen: Waasserstoff Plasma ass besonnesch effektiv ze läschen an der Entloossung vun de Liichtquellen, déi an der UV Lithographie benotzt ginn.
Argon
ARTROon ass en aneren awer nach en Begeer deen et passt als Nicrooffel an Heliumage excsätzt. Allerdings ass d'Argon seng niddereg Ioniséierung Energie mécht et nëtzlech an der Hallefulander Uwendungen. Wéinst senger relativer Liichtegkeet vun der Ioniséierung, Argon ass allgemeng als primär Plasma Gas fir ETCH a Depositiounsreaktiounen an der Semikalondrantor Hostaccurancen. Zousätzlech zu dësem, Argon gëtt och a excimer Laser fir UV Lithographie benotzt.
Firwat Rengheet ass et wichteg
Typesch, Fortschrëtter an der Hallefkonduction Technologie gouf duerch d'Gréisst Skaling erreecht, an déi nei Generatioun vu Sememoulistorologie ass duerch méi klenger Feature. Dëst loosse wënzegen Virdeeler: méi Transensateren zu kritt eng opgerroéiert Blëtzer, niddereg Kraaftbesëtzer a méi séier wéi méiglech.
Wéi och ëmmer, wéi déi kritesch Gréisst erof geet, semiconnistor Apparater geet ëmmer méi raffinéiert. An enger Welt wou d'Positioun vun eenzelne Atomer wichteg ass, falsch Toleranz Schwellungen ganz enk. Als Resultat, modern Hallefinstruktor Prozesser erfuerderen Prozess Gase mat der héchster méiglecher Puritéit.
Wells-Propirée Produkter vun der dell divers Banklawierung, am Congé Lëtzebuerg, wielt Ären Ausrechnungen, Prioritéite- a KammuratDER Nialemaart, chonstélivatiedes a spezielle Leeschtungsystem an flëssegem Resultat, de Prozesser sammtstesche System, de Puppelchen Associatiounsstatus matt liichte Leeschtungscours, de Installatioun an den Bau vun der Projeteei, vum Gesamt Systemteree "Equuréeën an och integréiert Manéier.
Postzäit: Jul-11-2023