Héich-Rengheetgas Piping Technologie ass e wichtege Deel vu Belagerungsschëlwer-Gasbetrag System, wat ass d'Schlëssel Technologie fir déi erfuerderlech Héichschoulgas fir d'qualifizéierter Qualitéit ze liwweren. Dergeller Prièdo Ausmoossker Technologie bausse de richtegen Organisateur an Accanseren an Accessoiren, Chaussée an Installatioun an Chantier. An de leschte Joeren, déi ëmmer méi strikten Ufroen op der Rengheet an d'Gräifschaft Inhalt vun der Héichschoulgasen an der Produktioun vun der Mikroderectronics Procriptions representéiert an der Pipriféierung vun der Piprifitéit vun der Pipriktioun huet d'Piping Technologie vun der Piprikuiten vun der Pipriptiounskrees. Déi folgend ass eng kuerz Iwwersiicht iwwer Héich-Rengheetgas Piping vu materiell Auswielof Bau, souwéi Akzeptanz an den alldeegleche Gestioun.
Aarte vu gemeinsame Gasen
Klassifikatioun vu gemeinsame Gasen an der Elektronikindustrie:
Allgemeng Gasen(Bulk Gas): Waasserstrooss (H2), lagrogen (n2), Sauerstoff (o2), Argon (a2), etc.
Spezialitéit Gasensinn sih4 ,PH3 ,B2H6 ,A8H3 ,CL ,Hcl,CF4 ,NH3,Pocc3, Sih2cl2 Sihcl3,NH3, Bl3 ,SFID4 ,CFL3 ,COO,C2F6, N2o,F2,Hf,Hbr s6....... etc.
D'Aarte vu speziellen Gase kënnen allgemeng als ätzend klassifizéiert ginnGas, toxeschGas, brennbarGas, brennbarGas, inertGas, asw. Déi allgemeng benotzt Hallefinstruktorist Gasen sinn normalerweis als folgend klasséiert.
(i) korrosiv / gëftegGas: Hcl, bf3, Wf6, Hbr, sih2Cl2, Nh3, PH3, CL2, BCl3... etc.
(ii) BrennbarkeetGas: H2, Ch4, Sih4, PH3, Ash3, sih2Cl2, B2H6, Ch2f2,Chee Ch3F, CO ... etc.
(III) KrommibilitéitGas: O2, CL2, N2O, nf3... etc.
(iv) InertGas: N2, Cf4, C2F6, C4F8,Sf6, CO2An dat, war hien ... et ....
Vill Semikalommease si schiedlech fir mënschlech Kierper. Besonnesch, e puer vun dësen Gase, sou wéi Sir4 spontan Brennstoff, soulaang e Lecker hefteg mat dem Sauerstoff an der Loft reagéiert an ze briechen; an Äschen3Eng Sécherheetsapparater ass all liicht Lafen, dat de Risiko vu Mënschlecht Liewen verursaacht, ass se net effektiv schwéier Fäegkeeten, datt d'Chance fir de Systemhig héich ass.
Applikatioun Ëmfang vun Gase
Als eng wichteg Basis geréischt Material vu modernerer, Gasdukter sinn normalerweis verbonnen, Glazer, Fro, wat d'Sueaarbechtung an engem gemittlech Sektiounen verbonnen. Medikassung an e gemittlech Sektiounen. D'Applikatioun vum Gas huet eng wichteg Impakt op d'héich Technologie vun dëse Feleschen Impaktade matgemaach. Nëmme mat der Bedierfter an enger Promotioun vun verschiddenen industrieller Wëssenschaft an der Texier- technesch bekämpfen a Quantitéit a Quantitéit a Quantitéit a Quantitéit.
Gasapplikatioun an der Mikroelectronics a Semikondoristic
Ziel) Industrie, alles wat fir eng wichteg Roll am Semikalolandster Prozess gespillt gëtt, besonnesch den semuellen Zoustand vu Produkter. D'rue ass den dencisitive Auskeffer vun Kompon ënnerschriwwen, an d'Sécherheetsverléissung vun der Gasverbung an d'Sécherheetservoren.
D'Bedeitung vun der High-Rengheet Piping am High-Rengheet Gas Transport
Am Prozess zu Edelstol-Stolstoling a Material maachen, ongeféier 199 € kann pro Ton opgeholl ginn. No dëser Eraarbechtung ass den Arcemessdol, net nëmmen senger Sëtzung a sozialer kontamin Fridden och e bestëmmst Betrag. Wann et duerch Gielmaschlag duerchgrowt duerch Pipelin, d'Metall den Metal vum Gas vum Gas gëtt den Airfloloof an deen purutscht Gas anzeschreiwen. Wann d'Ausrüstung am Rubchen an der Rubrik ass entlooss, an d'éist Gas eragert, dréckt op de Rullen an wann d'Ergleiwen eropgeet, ass de Gasbemak eropzekréien, de Gasbiesploss no dem Himmelsfloss Duerchweet, De Gasblocker vum Tablwer, de Gasbemak no engem Gasbidder erofhuelen, huet d'Luft erop geholl, am Gas -Schowperen, de Gasbiesploppen, de Gasbiesplëppung wéinst der Tubel formt en Ofschloss an d'Spure an d'Rubrik am Rouer. Zurfer Emzäitszäit an huet d'Openptioun an engender Lëscht, fir Wueren, fir ass et, wat d'Metall op der banneschter Gas an der Tubel entholl gëtt. Good Idea: Och Dëst chopsesch vum Tubus ass essefitesch fir sécher ze garantéieren datt se nëmmen eng ganz héich geschäffef d'Land existéiert, mee och eng héich Verfassungs- vum urs Resistenz duer.
Wann daat mam staarkenrasive Mooss benotzt gëtt, befreit goufen, wormrestereschstristente Busch Schüler benotzt fir Pulloen. Si bezeësche Piprosioun vun de Piprolszréisst op der béier Resistenz eruilt, a fir e grousst Landklammen an Kuerzemegerstrukturzéien.
D'Verbindung vun High-Rengheet an héich Propretéit Gas Iwwerdroung a Verdeelung Pipellins vu grousse Fluxraten.
Um Prineffent d'Ausfliffer ginn déi wieder wedd, an d'Spréngerleefëllt gefrot ginn, keng Rabitatioun ze hunn, wou d'Octivatioun gëtt. Materiale konëtzen zonnegt e Kuelafandinessinfleivel, ënnerheien obligatorem Unzeeche vun de wedenenen Deeler, wou Schéine Pindele gemaach
Am Reseau gesäit Highlights-Gas a Programmer, VFP, VoX-Linne Verdeelung vu bidde Bezéiung fir Héichschoulafimm u déi Héich pipriitéitsfeg.
Allgemeng Konzept vu propper Technologie fir d'Transmissioun an der Verdeelung Pipellines
Grouss reng a propptem Grondspräisser mat Pichéiere bedeit, datt et bestëmmte Ufuerderunge gi fir dräi Aspekter vum Gas ze transportéieren.
Grapspriechung: den Inhalt vun der Onniuitéit Atmosphär an der Gegas rengecht: den Inhalt vun enger Inessreider am Gas, normalerweis aswuel, wéi den Agolom99% ausgezeechent huet.
Dréchent: De Betrag vun Trace Fiichtegkeet am Gas, oder de Betrag, deen Nritess genannt gëtt, gëtt normalerweis am Sënn vum Taupunkt ausgedréckt, sou wéi atmosphäreschen Drock-Taux. C.
Propretéit: D'Zuel vun de kontaminante Partikelen enthalen am Gas, Partikelgréisst vun μm, wéivill Partikelen / M3 fir ausdrécklech Ariichte wéi vill MGPLOPLUSIFT.
Pollutant Gréisst Klassifizéierung: Verschlechterspartikelen, bezitt haaptsächlech op Pipeline Scoring, bastelt, d'Morrosiounspartikelen, atmosphärem-icostablts, scannt an facorganiss, schaarf, plaméiert d'Pollutant Gréisst Klassifizéierung: Pollutantpartikelen bezitt haaptsächlech op Pipeline Scoring, bastelt d'Morrosiounspartikelen, atmosphäremhändler.
a) grouss Partikelen - Partikelréisst iwwer 5μm
b) Partikel - Material Duerchmiesser tëscht 0.1μm-5μm
c) Ultra-Mikropartikelen - Partikelgréisst manner wéi 0,1μm.
Fir d'Applikatioun vun dëser Technologie ze verbesseren, fäeg ze partizipéieren vun der Partikelgréisst an μM Eenheeten, e bestëmmte Partikel-Status ass fir Referenz
Déi folgend ass e Verglach vu spezifesche Partikelen
| Numm / Partikelgréisst (um) | Numm / Partikelgréisst (um) | Numm / Partikelgréisst (μm) |
| Virus 0.003-0,0 | Aerosol 0.03-1 | Aerosoliséiert Mikrolypletter 1-12 |
| Nuklear Brennstoff 0.01-0.1 | Molen 0,1-6 | Fly Ash 1-200 |
| Kuelestoff schwaarz 0,01-0,3 | Mëllechpudder 0,1-10 | Pestizid 5-10 |
| Resin 0.01-1 | Bakterien 0,3-30 | Zement Stëbs 5-100 |
| Zigarett Damp 0.01-1 | Sand Stëbs 0.5-5 | Pollen 10-15 |
| Silicone 0,02-0.1 | Pestizid 0,5-10 | Mënschlech Hoer 50-120 |
| Kristalliséiert Salz 0,03-0,5 | Konzentréiert silfur Stëbs 1-11 | Mier Sand 100-1200 |
Postzäit: Jun-14-2022